Selective silicon etch for gate all around transistors

WO2022010664 Art A1 13. Januar 2022

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022010664
Aktenzeichen: EP21836806
Anmeldetag: 25. Juni 2021
Veröffentlichung: 13. Januar 2022
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/66H01L29/06H01L29/423H01L29/786

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von