Low-dielectric intrinsic negative photosensitive polyimide material and preparation method therefor
WO2022012077
Art A1
20. Januar 2022
Anmelder: DONGGUAN SOUTH CHINA DESIGN INNOVATION INSTITUTE, GUANGDONG UNIVERSITY OF TECHNOLOGY 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022012077
- Aktenzeichen
- EP21842563
- Anmeldetag
- 22. März 2021
- Veröffentlichung
- 20. Januar 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08G73/12C08G73/00C08J5/18G03F7/004C09K19/56
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- DONGGUAN SOUTH CHINA DESIGN INNOVATION INSTITUTE
GUANGDONG UNIVERSITY OF TECHNOLOGY - Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Guangdong University of Technology
Die Guangdong University of Technology ist eine chinesische Universität mit technischem und naturwissenschaftlichem Forschungsprofil in Guangzhou. Das Patentportfolio verteilt sich auf Werkzeug- und Fertigungstechnik, anorganische Chemie sowie Mess- und Halbleitertechnik, ergänzt durch Heiz- und Softwaretechnik. Anmeldungen laufen von 2011 bis in die Gegenwart.
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