Spectrometric metrology systems based on multimode interference and lithographic apparatus

WO2022012927 Art A1 20. Januar 2022

Anmelder: ASML HOLDING N.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2022012927
Aktenzeichen
EP21737448
Anmeldetag
29. Juni 2021
Veröffentlichung
20. Januar 2022
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/20G03F9/00G01N21/956
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML HOLDING N.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen