Method, device and computer program for repairing a mask for lithography

WO2022013297 Art A1 20. Januar 2022

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022013297
Aktenzeichen: EP21742419
Anmeldetag: 14. Juli 2021
Veröffentlichung: 20. Januar 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/24G01N21/956G03F1/72G03F1/84H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

2.391 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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