Method and apparatus for repairing a defect of a lithographic mask

WO2022013302 Art A1 20. Januar 2022

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022013302
Aktenzeichen: EP21743185
Anmeldetag: 14. Juli 2021
Veröffentlichung: 20. Januar 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/74G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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