Substrate processing method and substrate processing device
WO2022014181
Art A1
20. Januar 2022
Anmelder: SCREEN HOLDINGS CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022014181
- Aktenzeichen
- EP21843362
- Anmeldetag
- 1. Juni 2021
- Veröffentlichung
- 20. Januar 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/40G03F7/42H01L21/027H01L21/304H01L21/306H01L21/308
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
SCREEN Holdings
Japanischer Technologiekonzern. SCREEN Holdings stellt Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie her, insbesondere Wafer-Reinigungs- und Beschichtungssysteme, sowie Druck- und Bildverarbeitungstechnik.
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Vertreten von
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