Vapor deposition mask intermediate, vapor deposition mask, and method for manufacturing vapor deposition mask

WO2022014662 Art A1 20. Januar 2022

Anmelder: TOPPAN INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022014662
Aktenzeichen: EP21843452
Anmeldetag: 15. Juli 2021
Veröffentlichung: 20. Januar 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/04B26D7/18C23C14/24H01L51/50H05B33/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOPPAN INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toppan Printing

Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.

1.905 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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