Polishing pad, polishing device including same, and manufacturing method thereof

WO2022014978 Art A1 20. Januar 2022

Anmelder: KOREA INSTITUTE OF INDUSTRIAL TECHNOLOGY 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022014978
Aktenzeichen: EP21842223
Anmeldetag: 10. Juli 2021
Veröffentlichung: 20. Januar 2022
Rechtsraum: WO
IPC: B24B37/26B24B37/22H01L21/67

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: KOREA INSTITUTE OF INDUSTRIAL TECHNOLOGY
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea Institute of Industrial Technology

Das Korea Institute of Industrial Technology (KITECH) ist eine südkoreanische staatliche Forschungseinrichtung für angewandte Industrietechnik. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Fertigungs- und Drucktechnik sowie Metallurgie und Halbleitertechnik, ergänzt durch Verfahrenstechnik. Anmeldungen sind von 2002 bis in die Gegenwart belegt.

688 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von