Computed axial lithography optimization system
WO2022015657
Art A1
20. Januar 2022
Anmelder: LAWRENCE LIVERMORE NATIONAL SECURITY, LLC, TAYLOR, Hayden, LI, Chi Chung, RONGEY, Trevor, Jr., LUK, Sui Man, FU, Heting, FEILI, Samira, TOOMBS, Joseph, HEIDARI, Hossein 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022015657
- Aktenzeichen
- EP21843557
- Anmeldetag
- 12. Juli 2021
- Veröffentlichung
- 20. Januar 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B29C64/386B29C64/124B29C64/264B29C64/393B33Y10/00B33Y30/00B33Y50/00B33Y50/02B33Y80/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- LAWRENCE LIVERMORE NATIONAL SECURITY, LLC
TAYLOR, Hayden
LI, Chi Chung
RONGEY, Trevor, Jr.
LUK, Sui Man
FU, Heting
FEILI, Samira
TOOMBS, Joseph
HEIDARI, Hossein - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lawrence Livermore National Security
Lawrence Livermore National Security ist die Betreibergesellschaft des Lawrence Livermore National Laboratory, eines US-Forschungslabors für nationale Sicherheit und Energie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Fertigungstechnik, ergänzt durch Optik und Messtechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2002 bis 2025.
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