Systems, methods, and devices for thermal conditioning of reticles in lithographic apparatuses

WO2022017741 Art A1 27. Januar 2022

Anmelder: ASML HOLDING N.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022017741
Aktenzeichen: EP21737450
Anmeldetag: 29. Juni 2021
Veröffentlichung: 27. Januar 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML HOLDING N.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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