Method of argon-based atmospheric-pressure plasma treatment and method of chemical vapor machining with atmospheric-pressure plasma

WO2022018861 Art A1 27. Januar 2022

Anmelder: OSAKA UNIVERSITY 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022018861
Aktenzeichen: EP20945859
Anmeldetag: 22. Juli 2020
Veröffentlichung: 27. Januar 2022
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: OSAKA UNIVERSITY
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Osaka University

Staatliche Universität in Osaka, Japan, eine der führenden Forschungsuniversitäten des Landes mit Schwerpunkten in Naturwissenschaften, Medizin und Ingenieurwesen.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

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