Dc high-voltage source device and charged particle beam device

WO2022018873 Art A1 27. Januar 2022

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022018873
Aktenzeichen: EP20945977
Anmeldetag: 22. Juli 2020
Veröffentlichung: 27. Januar 2022
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/248H02M3/07H02M3/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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