Double-scanning opto-mechanical configurations to improve throughput of particle inspection systems
WO2022023129
Art A1
3. Februar 2022
Anmelder: ASML HOLDING N.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022023129
- Aktenzeichen
- EP21746484
- Anmeldetag
- 20. Juli 2021
- Veröffentlichung
- 3. Februar 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F1/84G03F7/20G01N21/47G01N21/88G01N21/94
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML HOLDING N.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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