Actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and electronic device manufacturing method

WO2022024673 Art A1 3. Februar 2022

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022024673
Aktenzeichen: EP21849644
Anmeldetag: 2. Juli 2021
Veröffentlichung: 3. Februar 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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