Actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern formation method, and method for producing electronic device

WO2022024928 Art A1 3. Februar 2022

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022024928
Aktenzeichen: EP21849557
Anmeldetag: 21. Juli 2021
Veröffentlichung: 3. Februar 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C07D317/44C07D327/06C07D333/08C09K3/00G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20C07D295/096C07D295/26C07D307/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik Organische Chemie

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