Method and apparatus for etching a lithography mask

WO2022029315 Art A1 10. Februar 2022

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022029315
Aktenzeichen: EP21758646
Anmeldetag: 6. August 2021
Veröffentlichung: 10. Februar 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/72G03F1/74G03F1/80C23C16/40H01J37/317

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

2.391 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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