Chemically amplified photosensitive composition, photosensitive dry film, method for producing substrate with plating mold, and method for producing plated shaped article
WO2022030163
Art A1
10. Februar 2022
Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022030163
- Aktenzeichen
- EP21854282
- Anmeldetag
- 7. Juli 2021
- Veröffentlichung
- 10. Februar 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/004G03F7/039G03F7/20G03F7/40
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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