Copolymer, copolymer solution, photosensitive resin composition, cured article, method for producing copolymer, and method for producing copolymer solution
WO2022030445
Art A1
10. Februar 2022
Anmelder: NIPPON SHOKUBAI CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022030445
- Aktenzeichen
- EP21853290
- Anmeldetag
- 2. August 2021
- Veröffentlichung
- 10. Februar 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08F220/32C08F2/44C08F8/14C08L33/14G03F7/004G03F7/033
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NIPPON SHOKUBAI CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nippon Shokubai
Japanisches Chemieunternehmen, das unter anderem Acrylsäure, Superabsorber und Katalysatoren für die Industrie produziert.
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