Sputtering target material and oxide semiconductor

WO2022030455 Art A1 10. Februar 2022

Anmelder: MITSUI MINING & SMELTING CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022030455
Aktenzeichen: EP21854618
Anmeldetag: 2. August 2021
Veröffentlichung: 10. Februar 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C04B35/01C04B35/453H01L29/786

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUI MINING & SMELTING CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsui Mining & Smelting

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Nichteisenmetallen sowie der Herstellung von Materialien für die Elektronikindustrie.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von