Mixed dispersion for wet grinding of silicon, method for producing nano silicon slurry using same, and nano silicon slurry produced thereby

WO2022030707 Art A1 10. Februar 2022

Anmelder: KOREA INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022030707
Aktenzeichen: EP20948508
Anmeldetag: 30. Dezember 2020
Veröffentlichung: 10. Februar 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C01B33/02H01M4/36H01M4/38H01M4/62H01M4/587

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: KOREA INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea Institute of Science and Technology

Südkoreanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Seoul, das interdisziplinäre Forschung in Naturwissenschaften, Ingenieurwesen und Materialtechnologie betreibt und zahlreiche Patente aus seinen Instituten hervorbringt.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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