Discharge device
WO2022034800
Art A1
17. Februar 2022
Anmelder: SHISEIDO COMPANY, LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022034800
- Aktenzeichen
- EP21855879
- Anmeldetag
- 29. Juli 2021
- Veröffentlichung
- 17. Februar 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B05B11/00B65D81/32B65D83/00B05B7/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHISEIDO COMPANY, LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shiseido
Japanisches Kosmetik- und Körperpflegeunternehmen mit Sitz in Tokio, gegründet 1872, eines der ältesten und größten Kosmetikunternehmen der Welt.
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Vertreten von
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