Composition for forming underlayer film for lithography, underlayer film, and pattern forming method

WO2022034831 Art A1 17. Februar 2022

Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022034831
Aktenzeichen: EP21855910
Anmeldetag: 3. August 2021
Veröffentlichung: 17. Februar 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C08G8/28C08G8/36C08G12/40C08G12/44C08G61/02G03F7/11G03F7/26H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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