Substrate supports with multilayer structure including coupled heater zones with local thermal control

WO2022035629 Art A1 17. Februar 2022

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2022035629
Aktenzeichen
EP21856441
Anmeldetag
2. August 2021
Veröffentlichung
17. Februar 2022
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/67H01L21/683H05B3/14H05B3/28C23C16/458H01J37/32
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
LAM RESEARCH CORPORATION
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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