Metrology method for measuring an exposed pattern and associated metrology apparatus

WO2022037877 Art A1 24. Februar 2022

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022037877
Aktenzeichen: EP21746729
Anmeldetag: 20. Juli 2021
Veröffentlichung: 24. Februar 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G02F1/35G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von