Verfahren zum Herstellen eines Vakuumgreifers für Halbleiterwerkstücke und Vakuumgreifer

WO2022037890 Art A1 24. Februar 2022

Anmelder: SILTRONIC AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2022037890
Aktenzeichen
EP21748615
Anmeldetag
21. Juli 2021
Veröffentlichung
24. Februar 2022
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/683H01L21/687
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
SILTRONIC AG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Siltronic

Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.

375 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen