Composition for underlayer film formation, underlayer film, and lithography process

WO2022039082 Art A1 24. Februar 2022

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022039082
Aktenzeichen: EP21858229
Anmeldetag: 11. August 2021
Veröffentlichung: 24. Februar 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C08F8/00C08F120/10H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik

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