Composition, its use and a process for removing post-etch residues
WO2022043111
Art A1
3. März 2022
Anmelder: BASF SE 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022043111
- Aktenzeichen
- EP21752575
- Anmeldetag
- 16. August 2021
- Veröffentlichung
- 3. März 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/306H01L21/02C11D11/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- BASF SE
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
BASF
Deutscher Chemiekonzern mit Sitz in Ludwigshafen, gegründet 1865. Entwickelt und produziert Chemikalien, Kunststoffe, Agrarprodukte und Materialien für zahlreiche Industriezweige.
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