Multiscale physical etch modeling and methods thereof

WO2022043408 Art A1 3. März 2022

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022043408
Aktenzeichen: EP21765676
Anmeldetag: 26. August 2021
Veröffentlichung: 3. März 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G06F30/398H01L21/027H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Software & Datenverarbeitung

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