Compostion for depositing a palladium coating on a substrate
WO2022043567
Art A1
3. März 2022
Anmelder: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH&CO. KG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022043567
- Aktenzeichen
- EP21770183
- Anmeldetag
- 31. August 2021
- Veröffentlichung
- 3. März 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C18/12C23C18/44H05K3/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH&CO. KG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Atotech Deutschland
Atotech Deutschland ist ein deutscher Anbieter von Oberflächenveredelungschemie, unter anderem für die Elektronik- und Halbleiterindustrie, und gehört zum US-Konzern MKS Instruments. Das Patentportfolio konzentriert sich deutlich auf Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt durch Elektronik und Halbleitertechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2000 bis 2025.
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