Method for manufacturing cylindrical sputtering target, and cylindrical sputtering target

WO2022045054 Art A1 3. März 2022

Anmelder: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022045054
Aktenzeichen: EP21861480
Anmeldetag: 23. August 2021
Veröffentlichung: 3. März 2022
Rechtsraum: WO
IPC: B23K1/00C22C13/00C22C28/00B23K35/26C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von