Method for producing composition for non-photosensitive upper film formation, pattern formation method, and method for producing electronic device

WO2022045219 Art A1 3. März 2022

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022045219
Aktenzeichen: EP21861642
Anmeldetag: 25. August 2021
Veröffentlichung: 3. März 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C08F20/10G03F7/039G03F7/11G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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