Multi-metal lateral layer devices with internal bias generation

WO2022046493 Art A1 3. März 2022

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022046493
Aktenzeichen: EP21862397
Anmeldetag: 18. August 2021
Veröffentlichung: 3. März 2022
Rechtsraum: WO
IPC: H01L27/11514H01L27/11512H01L27/11507H01L27/11597H01L27/11595H01L27/1159

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von