Target-material initial treatment method for physical vapor deposition process, and controller
WO2022048253
Art A1
10. März 2022
Anmelder: CHANGXIN MEMORY TECHNOLOGIES, INC. 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022048253
- Aktenzeichen
- EP21863321
- Anmeldetag
- 22. Juni 2021
- Veröffentlichung
- 10. März 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- CHANGXIN MEMORY TECHNOLOGIES, INC.
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Changxin Memory Technologies
Chinesischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Hefei, spezialisiert auf DRAM-Speicherchips.
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