Charged particle system, aperture array, charged particle tool and method of operating a charged particle system

WO2022048897 Art A1 10. März 2022

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022048897
Aktenzeichen: EP21758716
Anmeldetag: 16. August 2021
Veröffentlichung: 10. März 2022
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/09H01J37/141H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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