Wavefront metrology sensor and mask therefor, method for optimizing a mask and associated apparatuses

WO2022048899 Art A1 10. März 2022

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022048899
Aktenzeichen: EP21762688
Anmeldetag: 16. August 2021
Veröffentlichung: 10. März 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G01J1/04G01J1/42G01J9/00G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von