Sputtering target, manufacturing method therefor, and manufacturing method for magnetic recording medium

WO2022049935 Art A1 10. März 2022

Anmelder: JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022049935
Aktenzeichen: EP21863993
Anmeldetag: 28. Juli 2021
Veröffentlichung: 10. März 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C04B35/596C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

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