Self-organizing film-forming composition, and method for forming pattern
WO2022049968
Art A1
10. März 2022
Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022049968
- Aktenzeichen
- EP21864026
- Anmeldetag
- 3. August 2021
- Veröffentlichung
- 10. März 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08K5/04C08K5/10C08L53/00B82Y40/00G03F7/40H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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