Method for cleaning substrate
WO2022050386
Art A1
10. März 2022
Anmelder: KAO CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022050386
- Aktenzeichen
- EP21864438
- Anmeldetag
- 3. September 2021
- Veröffentlichung
- 10. März 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C11D7/26C11D7/32G03F7/42
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KAO CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Kao
Japanischer Konsumgüter und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio. Kao entwickelt Produkte und Technologien für Körperpflege, Kosmetik, Haushaltsreiniger sowie chemische Spezialstoffe.
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