Wafer polishing method and wafer polishing device

WO2022054380 Art A1 17. März 2022

Anmelder: SUMCO CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2022054380
Aktenzeichen
EP21866341
Anmeldetag
1. Juli 2021
Veröffentlichung
17. März 2022
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/304
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
SUMCO CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Sumco

Sumco ist ein japanischer Hersteller von Siliziumwafern für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich entsprechend auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie- und Fertigungstechnik. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

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