Photosensitive transfer material, method for producing resin pattern, etching method, and method for manufacturing electronic device

WO2022054599 Art A1 17. März 2022

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022054599
Aktenzeichen: EP21866558
Anmeldetag: 26. August 2021
Veröffentlichung: 17. März 2022
Rechtsraum: WO
IPC: B32B27/00G03F7/004G03F7/09G03F7/11G03F7/20G03F7/26G03F7/40B32B7/06H05K3/06B32B33/00G06F3/041G06F3/044

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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