Composition for semiconductor photoresist, and pattern formation method using same

WO2022055149 Art A1 17. März 2022

Anmelder: SAMSUNG SDI CO., LTD. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022055149
Aktenzeichen: EP21867015
Anmeldetag: 20. August 2021
Veröffentlichung: 17. März 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/025G03F7/027G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SAMSUNG SDI CO., LTD.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Samsung SDI

Südkoreanisches Unternehmen der Samsung-Gruppe, das Batterien und Energiespeichersysteme für Elektrofahrzeuge, Elektronikgeräte und stationäre Anwendungen entwickelt und produziert.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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