Method of performing metrology, method of training a machine learning model, method of providing a layer comprising a two-dimensional material, metrology apparatus
WO2022058111
Art A1
24. März 2022
Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022058111
- Aktenzeichen
- EP21762040
- Anmeldetag
- 17. August 2021
- Veröffentlichung
- 24. März 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01N21/84G01N21/95
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML NETHERLANDS B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.