Method for producing resist pattern, resist pattern and positive photosensitive resin composition for production of transparent multilayer member

WO2022059448 Art A1 24. März 2022

Anmelder: DIC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022059448
Aktenzeichen: EP21869135
Anmeldetag: 26. August 2021
Veröffentlichung: 24. März 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C08G8/20G03F7/023G03F7/20G03F7/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: DIC CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 DIC Corporation

DIC Corporation ist ein japanischer Chemiekonzern (früher Dainippon Ink and Chemicals) mit Schwerpunkt auf Druckfarben, Pigmenten und organischen Feinchemikalien.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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