Silicon-containing monomer mixture, polysiloxane, resin composition, photosensitive resin composition, cured film, production method for cured film, patterned cured film, and production method for patterned cured film
WO2022059506
Art A1
24. März 2022
Anmelder: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022059506
- Aktenzeichen
- EP21869193
- Anmeldetag
- 2. September 2021
- Veröffentlichung
- 24. März 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08G77/24
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Central Glass
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.
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