Anti-scanning operation mode of secondary-electron projection imaging system for apparatus with plurality of beamlets

WO2022063540 Art A1 31. März 2022

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022063540
Aktenzeichen: EP21772769
Anmeldetag: 2. September 2021
Veröffentlichung: 31. März 2022
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/147H01J37/21H01J37/244

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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