Pattern formation method, electronic device production method, and pattern exposure device

WO2022065048 Art A1 31. März 2022

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022065048
Aktenzeichen: EP21872179
Anmeldetag: 9. September 2021
Veröffentlichung: 31. März 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F7/24H01L21/677

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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