Platen surface modification and high-performance pad conditioning to improve cmp performance
WO2022066362
Art A1
31. März 2022
Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022066362
- Aktenzeichen
- EP21873167
- Anmeldetag
- 27. August 2021
- Veröffentlichung
- 31. März 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B24B37/32B24B37/10B24B37/20B24B49/02H01L21/67
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- APPLIED MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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