Large-particle monitoring with laser power control for defect inspection

WO2022066387 Art A1 31. März 2022

Anmelder: KLA CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2022066387
Aktenzeichen
EP21873176
Anmeldetag
2. September 2021
Veröffentlichung
31. März 2022
Rechtsraum
WO
IPC
G01N21/88G01N21/95G01N21/94H01L21/66
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
KLA CORPORATION
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 KLA Corporation

US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.

1.908 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

Vertreten von

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