Stop apparatus for delimiting a beam path between a light source and an illumination optical unit of a projection exposure apparatus for projection lithography

WO2022069125 Art A1 7. April 2022

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022069125
Aktenzeichen: EP21772714
Anmeldetag: 30. August 2021
Veröffentlichung: 7. April 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

2.391 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von