Method for producing semiconductor wetting agent containing poly(vinyl alcohol) composition, polishing composition containing semiconductor wetting agent obtained using this production method, and method for producing polishing composition
WO2022070516
Art A1
7. April 2022
Anmelder: FUJIMI INCORPORATED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022070516
- Aktenzeichen
- EP21874821
- Anmeldetag
- 9. Juni 2021
- Veröffentlichung
- 7. April 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08L29/04C09K3/14H01L21/304
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJIMI INCORPORATED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujimi
Fujimi ist ein japanischer Hersteller von Poliermitteln, vor allem für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben und Klebstoffe sowie Halbleiterbauelemente und Fertigungstechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.
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