Method for producing semiconductor wetting agent containing poly(vinyl alcohol) composition, polishing composition containing semiconductor wetting agent obtained using this production method, and method for producing polishing composition

WO2022070516 Art A1 7. April 2022

Anmelder: FUJIMI INCORPORATED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2022070516
Aktenzeichen
EP21874821
Anmeldetag
9. Juni 2021
Veröffentlichung
7. April 2022
Rechtsraum
WO
IPC
C08L29/04C09K3/14H01L21/304
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
FUJIMI INCORPORATED
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Fujimi

Fujimi ist ein japanischer Hersteller von Poliermitteln, vor allem für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben und Klebstoffe sowie Halbleiterbauelemente und Fertigungstechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

511 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen